实验室或多用户的机构中具有高打印质量及产量要求的3D微纳加工系统，可应用于：生命科学，材料工程，微流道，微纳力学及MEMS，折射微光学，衍射为光学，集成光子学等为专家科研及工业人才设计，可解锁以下微纳加工课题中全部潜力的设备：快速原型制作批量，小系列生产晶圆级微纳加工等标准参数表面粗糙度(Ra)≤5nmMin特征尺寸1100nm形状准确度≤200nm批量生产200个标准结构的通宵产量自动聚焦精度≤30nm写场直径25mm/透镜放大倍数Max扫描速度25m/s/透镜放大倍数系统基本特征打印技术：基于双光子聚合的逐层3D打印，具有体素调节能力的双光子灰度光刻基片：显微镜载片(3x1”/76x26mm)/硅片，1”(24mm)到6”(150mm)/玻璃、硅及其他不透明材料光刻胶NanoscribeIP胶（聚合物打印）/NanoscribeGP-Silica胶（玻璃打印）/兼容第三方及各类自主材料Max打印面积50x50mm²Reshapingprecision。
Reshapingoutput.QuantumXshape双光子无掩膜光刻系统不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具！Reshapingusability！通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性.通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产！
正规双光子无掩膜光刻系统晶圆级加工
主要特征：*纳米尺度打印：在任意空间方向上的特征尺度控制，可达100nm*超快体素控制和100nm处理网格的高速3D微纳加工*先进的振镜轨道控制保证的快扫描速度下的轨迹准确度*自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位*可达6英寸基片和硅片的广泛选择*工业化批量生产：200个标准介观尺度结构通宵产量*保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能*快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工作流程*工业验证的晶圆级批量生产*通用及专用的打印材料*兼容自主及第三方打印材料!
作为德国全进口的3D微纳加工系统，NanoscribeQuantumXshape双光子无掩膜光刻系统是一款真正意义上的quan能机型.基于Nanoscribe双光子聚合技术，该系统不仅是快速成型制作的合适机型，同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的5D及3D形状的规模化生产。全新QuantumXshape可以为您打印任何5D和3D微纳结构，提供真正意义上的设计自由度。该系统可实现您各类高纵横比结构。
生成，上传，打印，在触控屏上或从办公室电脑上远程监控打印过程Nanoscribe客户遍布30个国家，超过1500名用户!众多排名高校中已经多所正在使用Nanoscribe3D打印系统。这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院、苏黎世联邦理工学院等等。在科研和工业领域，Nanoscribe的系列3D打印设备帮助推动着诸如超材料，微纳机器人，再生医学工程，微纳光学，微流道，微机电系统，生命科学，快速原型制作，批量系列生产，晶圆级微纳加工，微纳力学等等领域的发展.
主营概要：Nanoscribe双光子激光直写系统PPGT2,Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统
企业简介： 德国Nansocribe全资子公司 - 德国Nanoscribe成立于2007年，总部位于德国卡尔斯鲁厄，于2017年在中国上海成立分公司 - 纳糯三维科技（上海）有限公司。作为Nanoscribe在中国全资子公司，其加强了德国高新技术在中国的销售推广；在巩固并扩大现有业务关系的同时，进一步扩大了在整个亚太地区客户服务范围，负责系统的安装，维护，以及相关培训任务。分公司新建立的亚太实验室可供客户参观和学习。 目前，超过30个国家，1500名用户正在使用Nanoscribe设备。排名*的大学里已经有六所购买了Nanoscribe打印设备，这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院、斯坦福大学等等。 Nanoscribe公司的Photonic Professional GT2系列是目前打印精度zui高的3D打印机。跟传统的以激光立体光刻为代表的高精3D打印机相比，利用双光子聚合技术原理的Photonic Professional GT系列能够轻松打印出精细结构分辨率高出100倍的三维微纳器件。 全... 查看更多介绍信息
2021-11-19
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