石久Al2O3三氧化二铝,氧化铝,镀膜材料

供应信息简述：
：石久 ：Al2O3
供应信息详细介绍：
氧化铝粒 化学符号：Al2O3 外 观:透明 规格：1-3mm 纯度：4N 密 度：4g/cm3 熔 点：2045℃ 沸 点：2980℃ 蒸发温度：1800℃ 蒸发方式：电子束 透明范围/nm：200-7000 折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600) 基片温度为300℃时，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59； 基片温度为40℃时， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56； 蒸发源材料:W 、Mo 溶 解 于：纯酸、碱 薄膜的机械和化学性质：形成光滑的硬膜 性 能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀； 高纯超细氧化铝的优点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结； 应 用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜 用 途：广泛应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料； Al2O3膜的主要性能： 密 度/g？cm-3:3.1-4.0 电 阻 率/Ω？cm：1012-1013 折 射 率：1.72-1.76 禁带宽度eV：7 介电常数：7.5-9.6 产生龟裂厚度/μm:0.4 介电强度/V？cm-1:1×106-7×106 表面负电荷密度：3×1011-1012 红外吸收峰/μm:14-16 Al2O3-Si界面密度/（cm2？eV）-1: 1010-1011 Al2O3分析报告: Mn Cr Pb Ni V Nb 0.0030.0010.0010.0010.0010.0001 Co Ta 0.0010.001

主营概要：金属靶材,溅射靶材,陶瓷靶材,镀膜材料,二氧化硅,靶材,光学镀膜材料,真空镀膜材料,高纯铝粒,铜粒,铬粒,铝靶,合金靶材,铬靶,五氧化三钛,二氧化锆,高纯材料,二氧化钛,镍基合金,合金

企业简介： 北京石久高研金属材料有限公司（简称石久高研）成立于2005年，是经北京市科学技术委员会确认的高新技术企业。地理位置优越，交通便利。自公司成立以来受到有色金属研究总院、中国科学院、清华大学等科研院校的大力支持，并保持着长期稳定的合作关系。石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供高品质的靶材和蒸发料。公司拥有一流的镀膜材料领域的专业人才，具有雄厚的研发、生产实力。随着近年来高科技领域内薄膜的兴起和蓬勃发展，特别是微电子与光电子产业迅速发展，对镀膜材料的要求也达到了一个新的高度，公司密切关注国内外镀膜及镀膜材料的发展方向，为相关行业提供先进、优质的镀膜材料。目前公司主要生产销售的产品包括金属基、氧化物、氟化物及其它化合物类型的光学薄膜材料，主要应用于：溅镀膜、复合膜、彩色膜、增透膜、透紫外膜、激光装置滤光片、保护膜、透明导电膜、变色膜、优良的宽带增透膜、磁性薄膜、可见光区增透膜、红外增透膜、分光膜、多层膜、高反射膜、电阻膜、热反射膜、冷光灯、冷光碗及各种镜片镀膜，真空镀膜材料,陶瓷溅射靶材,金属溅射靶材,合金溅射靶... 查看更多介绍信息